на первый
заказ
Курсовая работа на тему: Разработать технологический процесс, рассчитать условия легирования и режимы роста монокристалла
Введение
В данной курсовой работе будет рассмотрен один из способов получения монокристалла заданной марки ГСДЦ-1-1-18.Все обозначение марки можно разделить на 2 части: буквенная часть и часть, заданная цифрами. Буквенная часть дает информацию о полупроводниковом материале, о типе электропроводности и о легирующей примеси. Для данного материала это означает, что будем получать антимонид галлия (ГС - Галлий Сурьмянистый), электропроводностью дырочного типа (Д), легированного цинком (Ц).
Часть, заданная цифрами дает количественную характеристику материала. Так, первая цифра обозначает допуск по концентрации (. Оставшиеся цифры задают исходную концентрацию в материале (.
Оглавление
- Основные свойства материала, методы получения монокристалла- Расшифровка марки материала
- Краткое описание свойств материала
- Методы получения материала
- Теоретическая часть
- Обоснование выбора метода получения материала
- Вывод распределения примеси
- Расчетная часть
- Выбор технологических режимов и размеров установки
- Расчет легирования кристалла
- Определение массы легирующей примеси Список использованных источников
или зарегистрироваться
в сервисе
удобным
способом
вы получите ссылку
на скачивание
к нам за прошлый год